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十博官方入口_安徽合肥双台面激光直接成像技术研发成功

6月 4th, 2021  |  国内

本文摘要:日前,从合肥集成电路高端生产设备技术研讨会上获悉,我市集成电路研究取得新突破,国内推出双台面激光器必备光学技术,超越国外高端激光平写曝光设备垄断。

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日前,从合肥集成电路高端生产设备技术研讨会上获悉,我市集成电路研究取得新突破,国内推出双台面激光器必备光学技术,超越国外高端激光平写曝光设备垄断。据报道,激光平写光刻设备可以大大延长集成电路从版图设计到芯片加工的周期,具有广阔的市场前景。目前,激光平板曝光设备的高端设备仍然依赖进口,已经成为制约我国集成电路和高端电路板行业发展的瓶颈。合肥齐欣微电子设备有限公司依托无掩膜激光平写技术在半导体领域的优势,研发生产了几乎具有自律知识产权、技术超过先进设备水平的LDI设备,成为一家拥有几乎自律知识产权的激光平写曝光设备制造商,并开始在市场上与欧美、日本厂商展开竞争。

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据报道,新技术采用集成电路生产后,生产效率提高了1.8倍,设备线宽分辨率、对准精度和生产能力三项核心指标均处于先进设备水平。根据规划,到2020年,合肥计划培育发展50多家集成电路设计企业,成为继中国之后的面板驱动、汽车电子、功率集成电路、专用存储器等特定芯片的生产基地。

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